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Kolloidale Kieselsäure/Kieselsäurelösung mit niedrigem Natriumgehalt ist ein Grundmaterial, das in vielen High-Tech-Industrien weit verbreitet ist und aufgrund seiner extrem hohen Reinheit und guten physikalischen und chemischen Eigenschaften viel Aufmerksamkeit erregt hat. Es besteht hauptsächlich aus einer stabilen kolloidalen Lösung, die aus in Wasser dispergierten nanoskaligen Siliciumdioxidpartikeln besteht. Hohe Reinheit ist das Hauptmerkmal dieses Materials, insbesondere in den Bereichen Elektronik, Halbleiter, Präzisionsguss usw. Die hohe Reinheit von kolloidalem Kieselsol mit niedrigem Natriumgehalt macht es zur ersten Wahl. Welche Faktoren bestimmen also die hohe Reinheit von kolloidalem Siliciumdioxid mit niedrigem Natriumgehalt?
1. Die Reinheit von kolloidalem Kieselsol mit niedrigem Natriumgehalt hängt eng mit den bei der Herstellung verwendeten Rohstoffen zusammen. Um sicherzustellen, dass das Endprodukt eine extrem hohe Reinheit aufweist, müssen die im Produktionsprozess ausgewählten Silica-Rohstoffe hohe Reinheitsstandards erfüllen. Normalerweise ist der Gehalt an Verunreinigungen in diesen Rohstoffen äußerst gering, insbesondere wird der Gehalt an Metallionen und Alkalimetallen (wie Natrium, Kalium usw.) streng kontrolliert. Durch die Verwendung von hochreinem Siliciumdioxidpulver oder -lösung als Basismaterial kann Siliciumdioxidsol die Reinheit seiner chemischen Zusammensetzung an der Quelle sicherstellen.
2. Bei der Herstellung von natriumarmem Kieselsol wird eine fortschrittliche Reinigungstechnologie eingesetzt, um Verunreinigungen und unerwünschte Elemente so weit wie möglich zu entfernen. Bei der Herstellung von Kieselsol wird üblicherweise eine Hochtemperaturhydrolyse eingesetzt, um Kieselsäurepartikel in Nanogröße zu erzeugen, und Verunreinigungen werden kontinuierlich durch Filtration und Zentrifugation entfernt. Insbesondere zur Entfernung von Natriumionen wird eine spezielle Verfahrenstechnik eingesetzt, um den Natriumionengehalt im Kieselsol auf ein extrem niedriges Niveau zu bringen und so sicherzustellen, dass es die Eigenschaften eines niedrigen Natriumgehalts erfüllt. Diese komplexen und präzisen Reinigungsprozesse verbessern die Gesamtreinheit des Produkts erheblich.
3. Bei der Herstellung von kolloidalem Siliciumdioxid mit niedrigem Natriumgehalt ist die Kontrolle der Produktionsumgebung von entscheidender Bedeutung. Das Einbringen jeglicher äußerer Verunreinigungen beeinträchtigt die Reinheit des Kieselsols. Daher müssen die Produktionsanlagen in einer staubfreien Umgebung durchgeführt werden, um eine Kontamination durch Feinstaub, Metallpartikel und andere Verunreinigungen in der Luft zu vermeiden. Gleichzeitig müssen auch die Reaktionsgeräte und -behälter aus inerten Materialien bestehen, um chemische Reaktionen mit den Reaktanten zu vermeiden. In der Regel werden in diesen Reaktoren spezielle Materialien wie Glas oder korrosionsbeständige Metalle verwendet, um sicherzustellen, dass während des Produktionsprozesses keine zusätzlichen Verunreinigungen eingebracht werden.
4. Ein weiterer Schlüsselfaktor für die hohe Reinheit natriumarmer Kieselsole ist die Entfernung von Natriumionen. Gewöhnliches Kieselsol kann eine geringe Menge an Natriumionen enthalten, die aus dem Lösungsmittel oder Nebenprodukten des Reaktionsprozesses stammen. Um natriumarme Produkte herzustellen, wird im Produktionsprozess eine spezielle Ionenaustauschtechnologie oder ein Umkehrosmoseverfahren eingesetzt, durch das die meisten Natriumionen effektiv entfernt werden, sodass der Natriumgehalt im Endprodukt äußerst niedrig ist. Ein niedriger Natriumgehalt trägt zur Verbesserung der chemischen Reinheit des Kieselsols bei und erhöht seine Hitzebeständigkeit und Stabilität erheblich.
5. Die hohe Reinheit von natriumarmem kolloidalem Siliciumdioxid hängt auch von mehreren Filtrations- und Feintrennprozessen ab. Durch den Einsatz von Nanofiltern und Ultrafiltrationsgeräten können die meisten Verunreinigungen im Kieselsol vollständig herausgefiltert werden. Insbesondere in der Endphase der Produktion wird das Kieselsol mehreren Präzisionsfiltrationen unterzogen, um die gleichmäßige Partikelverteilung und die hohe Reinheit des Materials sicherzustellen. Durch diese mehreren Filtrationsschritte können winzige Partikel, ionische Verunreinigungen und andere potenzielle Verunreinigungen entfernt werden, um sicherzustellen, dass die Endreinheit des Produkts den Anforderungen entspricht.